没有EUV光刻机，我国是如何攻克5nm芯片制造技术的呢？答案就在复旦大学的新技术中。
在我国芯片产业蓬勃发展的背景下，复旦大学近期开发出的异质CFET技术成为了焦点。这项技术无需依赖EUV光刻机，就能制造出高端芯片，为我国芯片制造技术带来了突破性的进展。我国芯片制造技术目前最先进的已达到14nm，但要进一步发展到7nm及以下技术，却遭遇了瓶颈，因为我们缺乏先进的EUV光刻机。然而，复旦大学的这一新技术却让我们看到了绕过这一瓶颈的希望。这一技术不仅展示了我国芯片产业的自主创新能力，也为我国芯片行业的未来发展指明了方向。在台积电在美国建厂对我国芯片行业构成挑战的背景下，我们更需要坚定自主创新，积极寻求合作，保护自身利益。
复旦大学的异质CFET技术让我们看到了中国芯片产业的无限可能，期待我国芯片产业能够持续创新，迈向更高峰！
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